Alle producten
220V / 50Hz Plasma Polijstmachine Hoogprecisie Industriële Polijstapparatuur
| Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
|---|---|
| Plasmabehandelingstijd: | 3 tot 10 minuten |
| Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
Plasmapoetser 500W Plasmabehandelingsmachine Laag energieverbruik
| Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
|---|---|
| Plasmagas: | Argon |
| Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
RF-generator Plasma Polijstmachine PLC-besturing Hoogprecisie Polijstmachine
| Plasmagas: | Argon |
|---|---|
| Plasmabron: | rf-generator |
| Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
Argongas- en RF-generator Plasma-afwerkingssysteem 500 W industriële polijstmachine
| Model: | PP001 |
|---|---|
| Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
| Energieverbruik: | 500 W |
220V / 50Hz Plasmapoetsapparatuur Hoogprecisie Plasma Finishing System
| Het tarief van de gasstroom: | 0-100 Sccm |
|---|---|
| Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
| Plasmabehandelingstijd: | 3 tot 10 minuten |
PLC-besturing Plasma Polijstmachine 50Hz Quartz Plasma Etsen en Polijsten Machine
| Plasmakamermateriaal: | met een gewicht van niet meer dan 10 kg |
|---|---|
| Stroomvoorziening: | 220V/50Hz |
| Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
ISO9001 0.1 Pa - 1.0 Pa Plasma slijpmachine Aanpasbaar Plasma Poliesysteem
| Energieverbruik: | 500 kW |
|---|---|
| Model: | PP001 |
| Plasmabron: | rf-generator |
High Precision Plasma Finishing System met Quartz Chamber oppervlakte raffinage machine
| Energieverbruik: | 500 W |
|---|---|
| Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
| Uniformiteit van de plasmabehandeling: | ± 5% |
Touch Screen PLC Control Plasma High Precision Grinding Machine 500W Gebruikersvriendelijk
| Temperatuur van de plasmabehandeling: | Kamertemperatuur |
|---|---|
| Controlesysteem: | Touch screenplc controle |
| Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
RF-generator Plasma Polijstmachine 220V Metalen oppervlak Polijstmachine ISO9001
| Plasmabehandelingsdruk: | 0.1-1.0 Pa |
|---|---|
| Grootte van de plasmakamer: | 300 mm x 300 mm x 300 mm |
| Plasmabron: | rf-generator |


