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Schlüsselwörter [ industrial metal polishing machine ] Spiel 139 produits.
1300 Kgs Rotations-Fass Poliermaschine Mischtyp Drehen für Kundenanforderungen
| Formular: | Flüssigkeit |
|---|---|
| Bearbeitung: | CNC-Bearbeitung, CNC-Drehmaschine |
| Fassgröße: | 200 mm x 300 mm |
Vollautomatisches Roboterpoliersystem Umweltfreundlicher Metallpolierroboter
| Leichte Wartung: | Erfordert nur minimale Wartung |
|---|---|
| Kompakte: | Kleines und platzsparendes Design |
| Effizienz: | Hohe Effizienz |
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Magnetische Schleifmaschine aus Edelstahl 380V für nichtmagnetische Metalle
| Verbrauchsmaterialien: | Magnetnadel |
|---|---|
| Abmessungen: | 2600*2600*1200 |
| Klassifizierung der Erzeugnisse: | Nichtmagnetische Erzeugnisse |
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15L 220V Magnetpoliermaschine Drehung im Uhrzeigersinn 3 - 5 Minuten Polierzeit
| Abwechslung: | In Uhrzeigersinn/gegen die Uhrzeigersinn |
|---|---|
| Spannung: | 220 V |
| Maschinenbreite: | 2600 Millimeter |
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Multifunktionale Magnetpoliermaschine 2600Mm 380V 50HZ Nennspannung
| Gewicht: | 25 kg |
|---|---|
| Geschwindigkeit: | 0-2000rpm |
| Spannung: | 380 V |
Metall-Elektropoliermaschine Säure-Lösung Oberflächenveredelungsausrüstung
| Oberflächenrauheit: | 0.1-0.5 Mikronen |
|---|---|
| Anwendung: | Oberflächenbearbeitung |
| Abbau-Rate: | 00,1-0,5 Mikronen pro Minute |
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220V / 50Hz Plasma Poliermaschine Hochpräzisions Industriepolieranlage
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
|---|---|
| Zeit der Plasmabehandlung: | 3 bis 10 Minuten |
| Plasmakammermaterial: | Quarz |
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Radiofrequenzgenerator Plasma Poliermaschine 220 V Metalloberflächenpoliermaschine ISO9001
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
|---|---|
| Größe der Plasmakammer: | 300 mm x 300 mm x 300 mm |
| Plasmaquelle: | Rf-Generator |
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Wasserdampf-Large Plasma-Poliermaschine 220V-Metalloberflächenpoliermaschine
| Plasmagas: | Wasserdampf |
|---|---|
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
| Stromverbrauch: | 500 kW |
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Tastscreen-PLC-Steuerung Plasma Poliermaschine 220V 50Hz Quarz Poliermaschine
| Stromverbrauch: | 500 kW |
|---|---|
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |