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Schlüsselwörter [ surface finishing machine ] Spiel 144 produits.
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Hochpräzisions-Plasma-Finixiersystem mit Quarzkammer-Oberflächenrefining-Maschine
| Stromverbrauch: | 500 W |
|---|---|
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |
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Wasserdampf-Large Plasma-Poliermaschine 220V-Metalloberflächenpoliermaschine
| Plasmagas: | Wasserdampf |
|---|---|
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
| Stromverbrauch: | 500 kW |
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Industrie Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 220V / 50Hz mit HF-Generator Plasma Quelle
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
|---|---|
| Stromverbrauch: | 500 kW |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |
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PLC-Steuerung Quarz Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 220V Plasma Polieranlage
| Modell: | PP001 |
|---|---|
| Zeit der Plasmabehandlung: | 3-5 Minuten |
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
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500 kW Plasma Poliermaschine Raumtemperatur Oberflächenrefining Maschine
| GasStrömungsgeschwindigkeit: | 0-100 Sccm |
|---|---|
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
| Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |
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Wasserdampf Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 500W Quarz Polieranlage
| Stromversorgung: | 220V/50Hz |
|---|---|
| Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
| Plasmakammermaterial: | Quarz |
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Große Vibrationsbearbeitungsmaschine im industriellen Tunnelstil mit verbesserter Sicherheit und Leistung
| Macht: | elektrisch |
|---|---|
| Veredelung: | vollautomatisch |
| Vibratoren: | Vibration der Förderleitung |
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Radiofrequenzgenerator Plasma Poliermaschine 220 V Metalloberflächenpoliermaschine ISO9001
| Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
|---|---|
| Größe der Plasmakammer: | 300 mm x 300 mm x 300 mm |
| Plasmaquelle: | Rf-Generator |
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Hochgeschwindigkeits-Auto-Roboter, der 1000 Stück/Stunde abschlägt
| Automatisch: | Verringert die manuelle Arbeit |
|---|---|
| Hohe Produktivität: | Erhöhung der Produktion |
| Sicher.: | Verletzungsgefahr minimiert |
Metall-Elektropoliermaschine Säure-Lösung Oberflächenveredelungsausrüstung
| Oberflächenrauheit: | 0.1-0.5 Mikronen |
|---|---|
| Anwendung: | Oberflächenbearbeitung |
| Abbau-Rate: | 00,1-0,5 Mikronen pro Minute |