Tất cả sản phẩm
Kewords [ metal plasma polishing machine ] trận đấu 56 các sản phẩm.
ISO9001 được phê duyệt kim loại điện phân đánh bóng 0.1 - 0.5 micron bề mặt hoàn thiện
| Chất lượng bề mặt: | Mượt mà và lấp lánh |
|---|---|
| Quá trình: | đánh bóng điện phân |
| Vật liệu: | Kim loại |
VIDEO
Máy đánh bóng plasma 50Hz Quartz Máy khắc và đánh bóng plasma
| Vật liệu buồng plasma: | thạch anh |
|---|---|
| Nguồn cung cấp điện: | 220V/50Hz |
| Hệ thống điều khiển: | Điều khiển plc màn hình cảm ứng |
VIDEO
Máy đánh bóng plasma Quartz Chamber 0.1 - 1.0 Pa áp suất xử lý
| Tính đồng nhất của điều trị huyết tương: | ± 5% |
|---|---|
| Thời gian điều trị huyết tương: | 3-5 phút |
| Tiêu thụ năng lượng: | 500KW |
VIDEO
Máy đánh bóng plasma điều khiển chính xác 220V / 50Hz Thiết bị đánh bóng thạch anh
| khí plasma: | Argon |
|---|---|
| Vật liệu buồng plasma: | thạch anh |
| Nguồn cung cấp điện: | 220V/50Hz |
VIDEO
Quartz Máy đánh bóng Plasma 500KW Công nghiệp Máy đánh bóng
| Tiêu thụ năng lượng: | 500KW |
|---|---|
| Mô hình: | PP001 |
| Kích thước buồng plasma: | 300mm X 300mm X 300mm |
Máy đánh bóng Plasma chính xác 3C được ISO9001 phê duyệt Máy loại bỏ Burr
| Loại sản phẩm: | Điện tử chính xác 3C |
|---|---|
| xử lý chính xác: | 0,002mm |
| Hiệu quả: | Cao |
0.1-0.5 Micron bề mặt thô Plasma điện phân đánh bóng PEP Thiết bị đánh bóng kim loại
| nhiệt độ: | 20-50 độ C |
|---|---|
| Quá trình: | đánh bóng điện phân |
| Ứng dụng: | Hàng không vũ trụ, ô tô, y tế, trang sức, v.v. |
Máy đánh bóng điện phân giải dung dịch trung tính cho kim loại 0,1 - 0,5 micron mỗi phút
| Tỉ lệ loại bỏ: | 0,1-0,5 Micron mỗi phút |
|---|---|
| nhiệt độ: | 20-50 độ C |
| Vật liệu: | Kim loại |
Máy đánh bóng điện phân plasma kim loại đồng nhất cao cho độ mịn bề mặt
| Hiệu quả: | Cao |
|---|---|
| Tỉ lệ loại bỏ: | 0,1-1 mm/phút |
| tính đồng nhất: | Cao |
VIDEO
380 volt đa chức năng Máy đục plasma Thiết bị đánh bóng cho các lỗ bên trong
| Quá trình: | gỡ lỗi |
|---|---|
| Tính năng: | Làm mờ các lỗ bên trong |
| Độ thô: | Giảm bớt |