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Schlüsselwörter [ metal plasma polishing machine ] Spiel 56 produits.
10 - 100V Elektropolierung Metall Plasma unterstützte elektrochemische Polierung ISO9001 zertifiziert
Temperatur: | 20-50℃ |
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Elektrolyt: | Säurehaltige Lösung |
Dauer: | 10 bis 30 Minuten |
20 - 100 Volt PEP Plasma Elektrolytische Polierung Glatte Oberflächenpoliermaschine
Spannung: | 20 bis 100 Volt |
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Oberflächenrauheit: | 0.1-0.5 Mikronen |
Vorteile: | Hohe Effizienz, geringe Kosten, umweltfreundlich |
Berührungsbildschirm-PLC-Steuerung Plasma-Hochpräzisionsschleifmaschine 500W Benutzerfreundlich
Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
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Steuerungssystem: | Touch Screen plc-Steuerung |
Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
Industrie Plasma Oberflächenbehandlung Maschine 220V / 50Hz mit HF-Generator Plasma Quelle
Plasmabehandlungstemperatur: | Raumtemperatur |
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Stromverbrauch: | 500 kW |
Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |
Schlanke / glänzende Plasma-Elektrolytpolierung Umweltfreundliche Oberflächenveredelungsmaschine
Verfahren: | Elektrolytisches Polieren |
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Material: | Metall |
Vorteile: | Hohe Effizienz, geringe Kosten, umweltfreundlich |
Elektropolierer mit neutraler Lösung 0,5 - 5 Ampere für eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit
Temperatur: | 20 bis 50 Grad Celsius |
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Spannung: | 20 bis 100 Volt |
Strom: | 0.5-5 Ampere |
Elektropolieren Plasma-Elektrolytpolieren 20V - 100V Metallveredelungsanlagen
Nachteile: | Begrenzt auf leitfähige Materialien, erfordert qualifizierte Bediener |
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Elektrolyt: | Neutrale Lösung |
Verfahren: | Elektrolytisches Polieren |
Elektrolytische Polierung der Metalloberfläche Plasma elektrochemische Oberflächenpolierungsanlagen
Oberflächenqualität: | Glatt und glänzend |
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Verfahren: | Elektrolytisches Polieren |
Material: | Metall |
Elektrolyt Plasma Oberflächenveredelung Elektropolieren Neutrale Lösung
Material: | Metall |
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Temperatur: | 20-50℃ |
Abbau-Rate: | 00,1-1 mm/min |
Hochpräzisions-Plasma-Finixiersystem mit Quarzkammer-Oberflächenrefining-Maschine
Stromverbrauch: | 500 W |
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Plasmabehandlungsdruck: | 0.1-1.0 Pa |
Einheitlichkeit der Plasmabehandlung: | ± 5% |