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palavras-chave [ metal plasma polishing machine ] Combine 56 produtos.
10 - 100V Eletropolish Metal Plasma Assisted Electrochemical Polishing Certificado ISO9001
Temperatura: | 20-50℃ |
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eletrólito: | Solução ácida |
Duração: | 10 a 30 minutos |
20 - 100 Volts PEP Plasma Electrolítica Polição Máquina de Polir Superfície Limpa
Voltagem: | 20 a 100 volts |
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A rugosidade da superfície: | 0.1-0.5 Microns |
Vantagens: | Eficiência elevada, baixo custo, ecológico |
Máquina de moagem de alta precisão de plasma de tela sensível ao toque
Temperatura de tratamento do plasma: | Temperatura ambiente |
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Sistema de controlo: | Controle do plc do tela táctil |
Pressão de tratamento do plasma: | 0.1-1.0 Pa |
Máquina de tratamento de superfície de plasma industrial 220V / 50Hz com gerador de RF Fonte de plasma
Temperatura de tratamento do plasma: | Temperatura ambiente |
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Consumo de energia: | 500 kW |
Uniformidade do tratamento do plasma: | ± 5% |
Máquina de acabamento de superfície de polimento eletrolítico de plasma liso / brilhante
Processo: | Lustro eletrolítico |
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Materiais: | Metal |
Vantagens: | Eficiência elevada, baixo custo, ecológico |
Máquina de polir eletrolição de solução neutra 0,5 - 5 Amp para melhorar a resistência à corrosão
Temperatura: | 20 a 50 graus Celsius |
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Voltagem: | 20 a 100 volts |
Corrente: | 0.5-5 Amp |
Equipamento de polimento eletrólico de plasma de 20 V a 100 V
Desvantagens: | Limitado a materiais condutores, requer operadores qualificados |
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eletrólito: | solução neutra |
Processo: | Lustro eletrolítico |
Equipamento de polimento de superfícies metálicas de plasma eletrolítico
Qualidade da superfície: | Suave e brilhante |
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Processo: | Lustro eletrolítico |
Materiais: | Metal |
Eletrólito Plasma Superfície de acabamento Eletropolissagem Solução neutra
Materiais: | Metal |
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Temperatura: | 20-50℃ |
Taxa da remoção: | 0.1-1 mm/min |
Sistema de acabamento de plasma de alta precisão com máquina de refinamento de superfície de câmara de quartzo
Consumo de energia: | 500 W |
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Pressão de tratamento do plasma: | 0.1-1.0 Pa |
Uniformidade do tratamento do plasma: | ± 5% |